除电方法和等离子体处理系统.pdf
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相关资料
除电方法和等离子体处理系统.pdf
本发明提供一种除电方法和等离子体处理系统。本发明的一个方式的除电方法,其在用处理等离子体对吸附在静电吸盘上的基片进行处理之后,对静电吸盘和基片进行除电,其包括:步骤a,在所述处理之后,生成除电等离子体;步骤b,在步骤a之后,使施加到吸附电极的吸附电压停止;步骤c,在步骤b之后,将吸附电极与经由电阻部而接地的接地线路连接,其中,电阻部能够将电阻值至少设定为第1电阻值和比该第1电阻值小的第2电阻值中的任一者;步骤d,在步骤c之前,选择电阻部的电阻值;和步骤e,在步骤d与步骤c之间,将电阻部的电阻值设定为步骤d
除电方法和等离子体处理系统.pdf
本发明提供一种除电方法和等离子体处理系统。本发明的一个方式的除电方法,其在用处理等离子体对吸附在静电吸盘上的基片进行处理之后,对静电吸盘和基片进行除电,其包括:步骤a,在所述处理之后,生成除电等离子体;步骤b,在步骤a之后,使施加到吸附电极的吸附电压停止;步骤c,在步骤b之后,将吸附电极与经由电阻部而接地的接地线路连接,其中,电阻部能够将电阻值至少设定为第1电阻值和比该第1电阻值小的第2电阻值中的任一者;步骤d,在步骤c之前,选择电阻部的电阻值;和步骤e,在步骤d与步骤c之间,将电阻部的电阻值设定为步骤d
等离子体处理方法和等离子体处理系统.pdf
本发明提供一种等离子体处理方法和等离子体处理系统,在等离子体处理前适当地对腔室的内部的构件的表面进行预涂布。等离子体处理方法包含以下工序:工序(a),利用包含不含卤素的前体气体的第一处理气体对腔室的内部的构件的表面形成第一保护膜;以及工序(b),在对所述构件的表面形成所述第一保护膜之后,利用第二处理气体的等离子体对被搬入到所述腔室的内部的处理对象体进行等离子体处理。
除电方法和基片处理装置.pdf
本发明提供一种除电方法和基片处理装置。除电方法包括:在静电吸盘上载置有基片的状态下向处理容器内导入气体的步骤;一边对所述静电吸盘的吸附电极施加直流电压一边增大该直流电压的绝对值,直至开始基于所述气体的放电的步骤;在基于所述气体的放电开始后,施加使所述基片的电荷量达到成为0或者接近0的电荷中和区域的所述直流电压的绝对值的步骤;和施加所述直流电压的绝对值直至达到所述电荷中和区域之后,使所述基片从所述静电吸盘脱离的步骤。本发明能够对基片的残留吸附进行充分的除电。
等离子体炉和含金属废物等离子体熔融处理系统及方法.pdf
本发明公开了一种等离子体炉和含金属废物等离子体熔融处理系统及方法;所述等离子体炉包括炉体,所述炉体包括炉顶、炉壁和炉底,所述炉顶中心设有进料口;所述炉顶上安装有第一等离子炬,所述第一等离子炬以进料口为中心均匀分布,所述第一等离子炬朝下指向炉体的中心轴线安装,所述第一等离子炬与竖直方向的夹角为10~60°;所述炉壁上安装有第二等离子炬,所述第二等离子炬沿炉壁均匀分布,所述第二等离子炬朝下指向炉体的中心轴线安装,所述第二等离子炬与水平方向的夹角为0~45°。本发明能够解决等离子体炉炉内空间温度场不均衡影响物料